Статья: Влияние энергии ионов при воздействии азотной плазмы на постоянные токи насыщения HEMT-транзисторов на основе нитридов III группы (2018)

Читать онлайн

В работе изучалось воздействие плазменной обработки в среде азота на DC-характеристики HEMT-транзисторов. Показано, что падение токов насыщения транзистора в результате плазменной обработки высокоэнергетичными ионами может быть связано с образованием на поверхности GaN cap-слоя транзисторной структуры зарядовых рассеивающих центров, которые приводят к кулоновскому рассеянию носителей в 2DEG канале, что приводит к падению тока насыщения приборов.

The effect of plasma treatment in the N2 medium on the HEMT characteristics was studied. It is shown that the drop in saturation currents of a transistor as a result of plasma processing by high-energy ions can be associated with the formation of a transistor structure of charge scattering centers on the GaN surface of the cap layer, which lead to Coulomb scattering of carriers in the 2DEG channel, which leads to a drop in the saturation current of the devices.

Ключевые фразы: азотная плазма, плазменная обработка, hemt, algangan, rfea
Автор (ы): Андрианов Николай Александрович, Панкратьев Павел Александрович, Смирнов Александр Сергеевич
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.38. Электроника. Фотоэлектроника. Электронные лампы, трубки. Рентгенотехника. Ускорители частиц
eLIBRARY ID
36425425
Для цитирования:
АНДРИАНОВ Н. А., ПАНКРАТЬЕВ П. А., СМИРНОВ А. С. ВЛИЯНИЕ ЭНЕРГИИ ИОНОВ ПРИ ВОЗДЕЙСТВИИ АЗОТНОЙ ПЛАЗМЫ НА ПОСТОЯННЫЕ ТОКИ НАСЫЩЕНИЯ HEMT-ТРАНЗИСТОРОВ НА ОСНОВЕ НИТРИДОВ III ГРУППЫ // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2018. №5
Текстовый фрагмент статьи